Apr 03, 2023 پیام بگذارید

چگونه هدف sputtering را آماده کنیم؟

اصطلاح "هدف کندوپاش" یک منبع کندوپاش را توصیف می کند که توسط کندوپاش مگنترون، آبکاری یونی چند قوس، یا سایر انواع تجهیزات پوششی تحت شرایط فرآیند مناسب برای ایجاد لایه های نازک عملکردی مختلف، پاشیده شده و بر روی یک بستر رسوب می شود. در صنایع مختلفی از جمله سلول های خورشیدی، نمایشگرهای صفحه تخت، نیمه هادی ها، الکترونیک صفحه تخت، ابزار، شیشه و کاربردهای تزئینی استفاده می شود. در زمینه های مختلف، مواد هدف متمایز مورد نیاز است.

تنظیم هدف سوزان

بر اساس رویه، تهیه مواد هدف کندوپاش را می توان به دو دسته متالورژی پودر و ریخته گری مذاب تقسیم کرد. شرایطی که در آن مواد در طی فرآیند عملیات حرارتی و همچنین تکنیک‌های پردازش بعدی گرم می‌شوند، علاوه بر خلوص، چگالی، اندازه دانه‌ها و جهت‌گیری کریستالی مواد باید به دقت کنترل شوند. کنترل.

1. فلزکاری با پودر
به منظور آماده سازی موفقیت آمیز اهداف با استفاده از متالورژی پودر، مهم است: (1) پودر با خلوص بالا و بسیار ریز به عنوان مواد خام انتخاب شود. (2) یک فناوری شکل دهی و تف جوشی را انتخاب کنید که بتواند به چگالی سریع دست یابد تا از تخلخل کم هدف اطمینان حاصل شود و اندازه دانه کنترل شود. و (3) نظارت دقیق بر ورود عناصر ناخالصی.

2. روش ریخته گری ذوب
یکی از تکنیک‌های اساسی برای ایجاد اهداف کندوپاش، فرآیند ریخته‌گری ذوب است. ذوب و ریخته‌گری شمش معمولاً در خلاء یا فضای محافظ انجام می‌شود تا اطمینان حاصل شود که محتوای عنصر ناخالصی تا حد امکان کم است. با این حال، مقدار مشخصی از تخلخل در داخل چارچوب مواد در طول فرآیند ریخته گری اجتناب ناپذیر است. کیفیت فیلم پراکنده شده تحت تأثیر این منافذ قرار می گیرد زیرا باعث می شوند ذرات در طول فرآیند کندوپاش پراکنده شوند. برای کاهش نفوذپذیری آن، پردازش حرارتی و عملیات حرارتی اضافی مورد نیاز است.

 

ارسال درخواست

صفحه اصلی

تلفن

ایمیل

پرس و جو