از مواد اولیه گرفته تا محصولات نهایی ، درک جامع از اهداف وانادیوم

ویژگی های هدف وانادیوم
شکل هدف وانادیوم: هدف گرد مسطح ، هدف مربع مسطح ، هدف چرخشی ، سفارشی سازی خاص شکل
خلوص هدف وانادیوم: 99 ٪ ، 99.9 ٪
ابعاد هدف وانادیوم: با توجه به نیاز مشتری پردازش می شود

{{0} inges شمشهای وانادیوم را که نیاز به خلوص و اندازه هدف را با استفاده از یک دستگاه اره ای افقی .} اول از قبل در درجه {{2} انجام دهید ، سپس جعل کنید و سپس میزان تغییر شکل کل جعل را به 370-80} ٪ کاهش دهید.
2. anninging ونادیم به دست آمده با جعل ، دمای آنیل400-500 درجه است ، زمان نگهدارنده 60-120 دقیقه است و سپس آن را با خنک کننده هوا خنک می کند.
3. ingot وانادیوم به دست آمده توسط آنیل را چرخانده ، و مقدار فشار هر پاس را به {1} mm کنترل کنید و کل تغییر شکل را به 70-80 ٪ کنترل کنید ، تا زمانی که هدف وانادیوم از قطر و ضخامت مورد نیاز خالی باشد.
4. anneal خالی هدف وانادیوم به دست آمده با نورد دوباره ، دمای آنیل450-550 درجه است ، زمان نگه داشتن90-150 دقیقه است ، و خنک کننده آب پس از بازپرداخت دوباره انجام می شود تا مجدداً هدف وانادیوم مورد نیاز خالی را بدست آورد.

{0}}} نیمه هادی و ساخت مدار یکپارچه
برای محافظت از لایه های سد برای محافظت از مواد لایه پایین در برابر انتشار مواد لایه بالایی استفاده می شود ، در نتیجه قابلیت اطمینان و عملکرد دستگاه را بهبود می بخشد

2. سلولهای خورشیدی
در سلولهای فیلم نازک خورشیدی ، از اهداف وانادیوم برای تهیه لایه های جذب نور کارآمد برای بهبود راندمان تبدیل فوتوالکتریک سلولها استفاده می شود.

3. نمایشگرهای پانل مسطح
برای تولید پوشش های صفحه نمایش مسطح برای بهبود اثرات صفحه نمایش و دوام. استفاده می شود

4. زمینه های الکترونیکی و نیمه هادی
در دستگاه های الکترونیکی ، از اهداف وانادیوم می توان برای سپردن فیلم های فلزی با خلوص بالا برای افزایش هدایت و پایداری دستگاه های الکترونیکی استفاده کرد.

مورد استفاده در زمینه های انرژی خورشیدی ، نمایشگرهای پانل مسطح ، الکترونیک و نیمه هادی ها ، مانند مدارهای یکپارچه ، فلز سازی پشت صفحه ، نوری و سایر برنامه ها {1 {1}