اهداف هافنیوم

اهداف هافنیوم از فلز هافنیوم با خلوص بالا ساخته شده اند و دارای رسانایی حرارتی، استحکام مکانیکی و پایداری شیمیایی خوبی هستند. اهداف هافنیوم به طور گسترده در رسوب گذاری تبخیر فیزیکی، کندوپاش مگنترون و سایر فناوری ها برای تهیه انواع مواد لایه نازک مانند اکسیدها، نیتریدها، سیلیسیدها و فلزات استفاده می شود. در ساخت نیمه هادی، هدف هافنیوم معمولاً برای تهیه مواد لایه نازک مانند سیلیکون، نیترید سیلیکون، آلومینا و زیرکونیا استفاده می شود. این مواد لایه نازک نقش مهمی در دستگاه های نیمه هادی مانند بهبود پایداری و عملکرد دستگاه ایفا می کنند. در تولید نمایشگر، هدف هافنیوم معمولاً برای تهیه مواد شفاف الکترود مانند اکسید قلع ایندیم (ITO) و اکسید روی (ZnO) استفاده می شود. اهداف هافنیومی به دلیل خلوص بالا و خواص خوب نقش مهمی در ساخت نیمه هادی و نمایشگر دارند. با توسعه صنعت، تقاضا برای اهداف هافنیوم به رشد خود ادامه خواهد داد.

ارسال درخواست

معرفی محصول

فرآیند آماده سازی هدف هافنیوم

تهیه فلز هافنیوم: فلز هافنیوم ماده اولیه مواد هدف هافنیوم است که باید با احیای تتراکلرید هافنیوم یا فلوراید هافنیوم تهیه شود. فرآوری فلز هافنیوم: فلز هافنیوم به شکل و اندازه مورد نیاز، معمولاً با آهنگری، کشش، برش و سایر روش‌های فرآوری پردازش می‌شود. تمیز کردن مواد هدف هافنیوم: برای اطمینان از خلوص مواد، ناخالصی ها و اکسیدهای روی سطح مواد هدف هافنیوم را تمیز کنید.

پردازش و آزمایش مواد هدف هافنیوم: نوار هافنیوم متبلور را به شمش ذوب کنید و سپس شمش را به مواد مورد نظر با شکل و اندازه مورد نیاز پردازش کنید و سپس خلوص و اندازه دانه را به شدت آزمایش کنید تا از کیفیت مواد هدف هافنیوم اطمینان حاصل کنید. الزامات را برآورده می کند. موارد فوق مراحل اصلی در تهیه مواد هدف هافنیوم می باشد. فرآیند آماده سازی تولید کنندگان مختلف ممکن است متفاوت باشد، اما به طور کلی بر اساس مراحل بالا انجام می شود.

ویژگی های اهداف هافنیومی

شکل هدف هافنیوم	هدف مسطح، سفارشی سازی به شکل خاص
خلوص هدف هافنیوم	99.95%
نام تجاری	یوشنگ متال
علامت تجاری	Hf1
مبدا	بائوجی چین
اندازه هدف هافنیوم	مطابق نقشه ها پردازش شده یا توسط دیگران سفارشی شده است

محصولات ما

هدف هافنیوم

آلیاژ هافنیوم

هدف هافنیوم

مشخصات محصول معمولی یوشنگ متال:
الف ذرات هافنیوم (هافنیوم کریستالی) قطر 2* (2.{2}}mm) که Zr کمتر یا مساوی 1.5٪

ب ذرات هافنیوم (هافنیوم زیرکونیوم کم) خلوص معمولی بیشتر یا مساوی 99.95 درصد که Zr<0.5%

ج ذرات هافنیوم (هافنیوم اسفنجی) خلوص معمولی بیشتر یا مساوی 99.4 درصد که Zr<2%

د خلوص مواد هدف هافنیوم بیشتر یا مساوی 99.9٪ (از جمله زیرکونیوم)، خلوص بیشتر یا مساوی 99.95٪ (شامل زیرکونیوم)، مشخصات و اندازه ها: هدف گرد، هدف مربع، هدف لوله و غیره (اندازه را می توان سفارشی کرد)

ه. خلوص پودر هافنیوم بیشتر یا مساوی 99.9٪ (شامل زیرکونیوم)، خلوص بیشتر یا مساوی 99.95٪ (شامل زیرکونیوم)، اندازه: -300 مش.

Baoji Yusheng Metal Technology Co. Ltd. بر تحقیق و توسعه و تولید اهداف کندوپاش پوشش با خلوص بالا و مواد فیلم پوشش با خلوص بالا تمرکز دارد.
با بیش از ده سال تجربه در تحقیق و توسعه و کاربرد مواد، همراه با پیشرفته ترین تجهیزات تولید، می تواند اهداف فلزی و مواد فیلم، اهداف آلیاژی با خلوص بالا و مواد فیلم را ارائه دهد.

محصولات عمدتاً شامل بوته های مختلف پوشش تبخیر و قایق های تبخیر و سایر لوازم جانبی به طور گسترده در زمینه های نیمه هادی ها، اپتیک دقیق، لیزر مادون قرمز، انرژی خورشیدی لایه نازک، صفحه نمایش لمسی، شیشه کاربردی، پوشش سطح و غیره استفاده می شود. موسسات تحقیقاتی علمی از همکاری و همکاری با یکدیگر برای ارائه راه حل های مواد پوشش یک مرحله ای و ارائه پشتیبانی فنی مواد استقبال می کنند. در صورت نیاز مستقیما تماس بگیرید: